| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16b.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZGivnK2Y/NnMP3 |
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m17@80/2006/12.06.13.07 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2006:12.06.13.07.39 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m17@80/2006/12.06.13.07.40 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.03.44.17 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-14414-PRE/9498 |
| ISSN | 0169-4332 |
| Chave de Citação | ChiaramonteAbrFabCar:2006:XrMuDi |
| Título | X-ray multiple diffraction in the characterization of TiNO and TiO2 thin films grown on Si(0 0 1)  |
| Ano | 2006 |
| Mês | Nov. |
| Data de Acesso | 03 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 321 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Chiaramonte, T. 2 Abramof, Eduardo 3 Fabreguette, F. 4 Sacilotti 5 Cardoso, L. P. |
| Identificador de Curriculo | 1 2 8JMKD3MGP5W/3C9JGUH |
| Grupo | 1 2 LAS-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 IFGW, UNICAMP 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Thin Films and Nanostructure Group, Universite de Bourgogne 4 Thin Films and Nanostructure Group, Universite de Bourgogne 5 Thin Films and Nanostructure Group, Universite de Bourgogne |
| Revista | Applied Surface Science |
| Volume | 253 |
| Número | 3 |
| Páginas | 1590-1594 |
| Histórico (UTC) | 2006-12-06 13:07:40 :: simone -> administrator :: 2012-11-24 01:39:32 :: administrator -> simone :: 2006 2013-02-20 15:19:54 :: simone -> administrator :: 2006 2018-06-05 03:44:17 :: administrator -> marciana :: 2006 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | TiO2 TiNO MOCVD Thin film X-ray multiple diffraction Renninger scan |
| Resumo | TiO2 and TiNxOy thin films grown by low pressure metal-organic chemical vapor deposition (LP-MOCVD) on top of Si(0 0 1) substrate were characterized by X-ray multiple diffraction. X-ray reflectivity analysis of TiO2[1 1 0] and TiNO[1 0 0] polycrystalline layers allowed to determine the growth rate (−80 Å/min) of TiO2 and (−40 Å/min) of TiNO films. X-ray multiple diffraction through the Renninger scans, i.e., -scans for (0 0 2)Si substrate primary reflection is used as a non-conventional method to obtain the substrate lattice parameter distortion due to the thin film conventional deposition, from where the information on film strain type is obtained. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo | X-ray multiple diffraction... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | X ray multiple difrraction.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator simone |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. |
| Acervo Hospedeiro | lcp.inpe.br/ignes/2004/02.12.18.39 cptec.inpe.br/walmeida/2003/04.25.17.12 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |